聚酰亞胺薄膜用作介電層進行層間絕緣，作為緩衝層能夠削減應力、進步成品率。作為保護層能夠削減環境對器材的影響，還能夠對a-粒子起屏蔽效果，削減或消除器材的軟差錯。PI薄膜製造聚酰亞胺的高溫文化學穩定性則起到了將金屬層和各種外界環境阻隔的效果。PI薄膜製造聚酰亞胺能夠由二酐和二胺在極性溶劑，如DMF，DMAC,NMP或THE/甲醇混合溶劑中先進行低溫縮聚，取得可溶的聚酰胺酸，成膜或紡絲後加熱至 300℃左右脫水成環轉變為聚酰亞胺；也能夠向聚酰胺酸中參加乙酐和叔胺類催化劑，進行化學脫水環化，獲得聚酰亞胺溶液和粉末。二胺和二酐還能夠在高沸點溶劑，如酚類溶劑中加熱縮聚，一步取得聚酰亞胺。

眾所周知，聚酰亞胺的歸納功能優異，用處廣泛。專供PI薄膜首要應用於電工、電子、通訊、新能源、信息記載與印象技能與資料、環保、航空航天、軍事、特種包裝資料及現代紙業等範疇。開始時，首要用於絕緣薄膜等範疇。後來，跟著國際科學技能的迅猛開展， 特別是全球進入信息化年代，外層國際空間的開發進入一個新的階段，地球人類盡力探求綠色環保新能源以來， 國際範圍內PI薄膜製造聚酰亞胺及其薄膜的研製更以迅猛之勢獲得長足進步。並敏捷向多層柔性印刷電路板範疇、太陽能電池及燃料電池等新能源範疇前進。尤其是2004年以來，國內外市場對移動電話、電子成像設備、電腦、液晶電視等的需求量激增， 使其加快向信息記載及數字印象等範疇擴張。

光刻膠：某些聚酰亞胺還可以用作光刻膠。有負性膠和正性膠，分辨率可達亞微米級。與顏料或染料配合可用於彩色濾光膜，可大大簡化加工工序。在微電子器件中的應用：用作介電層進行層間絕緣，作為緩衝層可以減少應力、提高成品率。作為保護層可以減少環境對器件的影響，還可以對a-粒子起屏蔽作用，減少或消除器件的軟誤差。半導體工業使用聚酰亞胺作高溫黏合劑，在生產數字化半導體材料和MEMS係統的芯片時，由於聚酰亞胺層具有良好的機械延展性和拉伸強度，有助於提高聚酰亞胺層以及聚酰亞胺層與上麵沉積的金屬層之間的粘合。 聚酰亞胺的高溫和化學穩定性則起到了將金屬層和各種外界環境隔離的作用。專供PI薄膜就選PI薄膜製造午夜十大禁播福利导航APP新材料公司。

聚酰亞胺薄膜耐高溫膠帶，以聚酰亞胺薄膜為基材，膠係矽膠，顏色為茶色，具有良好的高絕緣、耐高溫、低溫、耐酸堿、低電解、良好機械性能，耐磨擦、抗撕裂。短期耐溫性300（℃），一般耐溫性260（℃）30分鍾，一般FDM打印溫度在230℃以下，可以長期使用。膠帶粘接麵采用特殊粘劑處理，粘著力強，撕去後被遮蔽表麵不留殘膠，容易撕除，不易斷，撕後不留殘跡。PI薄膜製造聚酰亞胺高溫標簽應用於眾多電子產品的SMT及波峰製程中、主機板、腐蝕產品、手機及鋰電池等產品的耐高溫標簽。PI薄膜製造聚酰亞胺高溫標簽適用於鋼材、鋁材、金屬鑄造等高溫場合下的可識別數字化跟蹤標簽。